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Wafer Handler mechatronic Wafer Sorter 개요 경제적인 웨이퍼 매니지먼트   자동화된 웨이퍼 이송 장비는 제조 공정 전반에 걸쳐 각 웨이퍼를 추적하고 손상 및 파티클 오염의 위험을 완벽히 제거하는 역할을 합니다. 반도체 산업의 경제적인 매니지먼트를 위해서는 이러한 Wafer Sorter의 도입이 필수적입니다. 메카트로닉의 mWS 시리즈는 최신형 기술의 웨이퍼 자동 분류장비로, 초박막 또는 휜(Warped) 웨이퍼를 안전하게 취급하는 새로운 표준입니다. 또한 모듈식 설계 개념을 일관되게 구현함으로써 다양한 웨이퍼 캐리어와의 완벽한 호환성을 보장합니다. 메카트로닉 mWS 시리즈는 카세트 슬롯 수에 관계 없이 플라스틱 혹은 금속 재질의 웨이퍼를 자동으로 분류, 스플릿, 이송이 가능합니다.

Wafer Handler mechatronic Wafer Loader 개요 초박막 웨이퍼 핸들링 솔루션    제조 공정 기술의 발전에 따라 웨이퍼는 점점 더 얇아지고 있으며, 검사장비 혹은 후 처리 과정에서 매우 얇고 휜 웨이퍼를 처리할 수 있는 기술이 필요로 되고 있습니다. 메카트로닉의 웨이퍼 로더는 반도체 산업에서 필요로 하는 최고 수준의 안전성과 신뢰도로 50um 두께의 초박막 웨이퍼를 핸들링 할 수 있으며, 시장에 나와 있는 기존 장비와 비교했을 때 웨이퍼 이송 시간을 크게 단축하는 기능을 제공합니다. 메카트로닉 장비는 귀사의 수율을 최적화하는데 도움을 드릴 수 있습니다. 특징 ● 카세트 / FOUP

LASER 미세가공장치 NEL-150i 개요 LASER 미세가공장치 레이저 미세 가공장비 NEL-150i ■ 고출력 YAG 레이저 발진기 및 광학 현미경, 정밀 X,Y Stage를 조합한 반도체 Wafer용 초정밀 Laser가공 장치 ■ Stage를 제어하고 외부 Interface에서 주어진 좌표로 작업을 쉽게 Positioning ■ 가공용 YAG LASER를 현미경 대물 LENS를 통해  Taget에 조사하여 마킹 가능 특징 ■  NUV 에 의한 고분해능 관찰  - 단파장 조명(g선 : 436nm)과 고배율, 높은 NA 대물 렌즈로 고해상도 작업 및 관찰 가능 ■  UV 광에 의한 미세 가공 및 관찰  - 고출력

MASK/Wafer 측정기 AMFiM 개요 Mask 선폭 측정기 해당 제품은 9인치 이하 포토마스크 선폭과 좌표의 자동측정이 가능합니다. 고 정도 스테이지와 독자 개발한 광학계를 채용하여 간단한 조작으로 높은 재현성을 얻을 수 있습니다. i선 LED 광선을 채용하여 메인터넌스가 용이합니다. 스펙 ●주요사양 측정대상마스크 9인치 이하 대상 선폭 0.5～30μm（시야 내 계측） 30～500μm（스테이지 이동 계측） 선폭 측정 재현성　※1 ※2 3σ≦5nm 좌표 측정 재현성　※1 3σ≦15nm 스루풋　※1 선폭측정：　8분 30초 이하 좌표측정：　13분 이하

MASK/Wafer 측정기 BSM 개요 Wafer 양면 좌표 측정기 특징 - Wafer 양면 좌표 측정 - 양면 패턴사이 좌표 편차 측정 - 측정 재현성 3σ ≦ 100nm - 노광기와 연계 운용 카탈로그 BSM(K)

Nikon Mini Stepper Nikon Engineering Stepper 개요 축소 투영 노광장치 MEMS 스테퍼 시리즈 MEMS 디바이스의 다양화에 대응 2～6인치 웨이퍼 대응(NES1), 6～8인치 웨이퍼 대응(NES2) MEMS용 R&D 용도에서 양산까지 1대로 대응 가능 다양한 기판 사이즈 / 형태, 접착, 변형 등 커스텀 대응 가능 깊은 DOF로 두꺼운 PR 노광대응 IR 투과 얼라인먼트,Back면 얼라인먼트 가능(Option） Small Footprint로 협소한 공간에도 효율적 운용가능 특징  Nikon Mini Stepper   NES Seri

Nikon Wafer Loader OST-3100/3200 개요 Wafer Inspection System OPTISTATION-3100/3200 - 8", 12" Wafer 대응 - Motorized Stage & Auto Focus - Wafer Auto Loading - Thin Wafer & BOW Wafer 대응 - OPTISTATION-3100: 1 FOUP _ OPTISTATION-3200: 2 FOUP 특징 • 300mm Wafer의 간단하고 빠른 수동 육안 검사 • MACRO / MICRO IMAGE 분석에 최적화 된 Digital Camera System을 장착 가능 • R&D 결함

Nikon Wafer Loader OST-3000 개요 Wafer Inspection System OPTISTATION-3000 - 8", 12" Wafer 대응 - Manual Stage & Focus - Wafer Auto Loading - 1 Load Port - Thin Wafer & BOW Wafer 대응 특징 • 300mm Wafer의 간단하고 빠른 수동 육안 검사 • MACRO / MICRO IMAGE분석에 최적화 된 Digital Camera System을 장착 가능 • R&D 결함 분석을위한 Inline검사 Sy

Nikon Wafer Loader NWL200 개요 Wafer Loaders for IC Inspection Microscope 200mm Wafer Loader - 8" Wafer 대응 - Manual Stage & Focus - Thin Wafer Loading (100㎛) - Macro 육안검사 기능 특징 Wafer Loaders for IC Inspection Microscope NWL200 • 반도체 제조 공정에서 두께가 한층 얇아지는 Wafer 대응 • NWL200 시리즈는 니콘 독자적인 기술 • 검사 현미경용 Wafer Loader 최초의 100μm 두께 Wafer 이송 가능 • 차세대 반도체 검사에 맞춘 안정적인

NIR Microscope NIR Microscope 개요 NIR 검사용 CM10_NIR 현미경 - 근적외선 관찰용 소형 광학계 - 실리콘 Wafer 투과 관찰에 적합 - 대응파장: 900nm ~ 1200nm 특징 - NIR 파장(900nm ~ 1200nm) 대응가능한 소형낙사현미경 - Nikon 대물렌즈 (NIR20x, NIR50x), NIR용 InGaAs 카메라 조합관찰 - 전동/수동 Revolver 적용 가능 - 2/3인치 Camera대응 - 6''~12'' Stage 장착 가능 1. 관찰원리 2. NIR Sample Image

반도체 LSI/FPD 현미경 L300N / L300ND 개요 반도체 LSI / FPD 검사 현미경   -  고휘도 반사 투과조명 -  고배율 고해상도 샘플관찰 -  모터라이징 시스템 특징 반도체 LSI, FPD 검사 대형 현미경 관찰 성능, 환경 대응력, 호환성 강화 FPD / LSI 검사에 최적화 된 4가지 타입으로 Line-up 구성 현미경 스테이지   L200N / 200ND 스테이지 - 측정거리 : 200 x 200mm (8" x 8") (6인치 / 8인치 웨이퍼 대응)   L

반도체 LSI/FPD 현미경 L200N / L200ND 개요 반도체 LSI / FPD 검사 현미경   -  고휘도 반사 투과조명 -  고배율 고해상도 샘플관찰 -  모터라이징 시스템 특징 반도체 LSI, FPD 검사 대형 현미경 관찰 성능, 환경 대응력, 호환성 강화 FPD / LSI 검사에 최적화 된 4가지 타입으로 Line-up 구성 현미경 스테이지   L200N / 200ND 스테이지 - 측정거리 : 200 x 200mm (8" x 8") (6인치 / 8인치 웨이퍼 대응)