Tin tức

Có nhiều nhân tố ảnh hưởng tới độ chính xác của phép đo máy CMM như : độ chính xác của máy, loại đầu đo sử dụng (kiểu chạm tiếp xúc hay quét) hoặc phương pháp chạm tối ưu, nhưng trong đó kim đo (thông số kỹ thuật và cấu hình của kim ) cũng góp phần ảnh hưởng tới độ chính xác của phép đo             Có 4 yếu tố chính trong việc lựa chọn kim đo ảnh hưởng tới độ chính xác của Máy: 1.      Stylus ball sphericity (roundness): Độ tròn của đầu kim đo Phần lớn các đầu kim đo

MASK/Wafer 측정기 AMFiM 개요 Mask 선폭 측정기 해당 제품은 9인치 이하 포토마스크 선폭과 좌표의 자동측정이 가능합니다. 고 정도 스테이지와 독자 개발한 광학계를 채용하여 간단한 조작으로 높은 재현성을 얻을 수 있습니다. i선 LED 광선을 채용하여 메인터넌스가 용이합니다. 스펙 ●주요사양 측정대상마스크 9인치 이하 대상 선폭 0.5～30μm（시야 내 계측） 30～500μm（스테이지 이동 계측） 선폭 측정 재현성　※1 ※2 3σ≦5nm 좌표 측정 재현성　※1 3σ≦15nm 스루풋　※1 선폭측정：　8분 30초 이하 좌표측정：　13분 이하

MASK/Wafer 측정기 BSM 개요 Wafer 양면 좌표 측정기 특징 - Wafer 양면 좌표 측정 - 양면 패턴사이 좌표 편차 측정 - 측정 재현성 3σ ≦ 100nm - 노광기와 연계 운용 카탈로그 BSM(K)

Như đã giới thiệu từ bài “Kỹ Thuật Ngược” , công đoạn đầu tiên của quy trình kỹ thuật ngược là “ Quét 3D ”. Hiện nay trên thế giới, có hai phương pháp quét 3D cơ bản Phương pháp quét tiếp xúc: Sử dụng đầu quét các đầu dò tiếp xúc ( touch probe ) các đầu dò này thường được phổ biến gắn trên các máy đo tọa độ 3D CMM cơ bản ( coordinate measuring machine ) hoặc trên các cánh tay cơ học, cánh tay rô bốt. Các máy này thường được cung cấp đi kèm với bộ phần mềm thu thập dữ liệu từ đầu

Nikon Mini Stepper Nikon Engineering Stepper 개요 축소 투영 노광장치 MEMS 스테퍼 시리즈 MEMS 디바이스의 다양화에 대응 2～6인치 웨이퍼 대응(NES1), 6～8인치 웨이퍼 대응(NES2) MEMS용 R&D 용도에서 양산까지 1대로 대응 가능 다양한 기판 사이즈 / 형태, 접착, 변형 등 커스텀 대응 가능 깊은 DOF로 두꺼운 PR 노광대응 IR 투과 얼라인먼트,Back면 얼라인먼트 가능(Option） Small Footprint로 협소한 공간에도 효율적 운용가능 특징  Nikon Mini Stepper   NES Seri

Máy đo CMM  có một lịch sử thú vị đã tồn tại gần 60 năm. Ngành công nghiệp CMM hiện đại sản xuất hơn 6.000 CMM mới mỗi năm, cũng như trang bị và nâng cấp thêm hàng chục nghìn máy. Các máy CMM này có thể là thủ công, trong đó người vận hành điều khiển máy. Hoặc tự động CNC, được điều khiển tự động bởi một chương trình đặc biệt. Với số lượng máy đo CMM hiện đang được sản xuất. Thật khó để tưởng tượng một thế giới khi kiểm soát chất lượng phụ thuộc vào các phép đo tay. Lịch sử công nghệ máy đo CM

Nikon Wafer Loader OST-3100/3200 개요 Wafer Inspection System OPTISTATION-3100/3200 - 8", 12" Wafer 대응 - Motorized Stage & Auto Focus - Wafer Auto Loading - Thin Wafer & BOW Wafer 대응 - OPTISTATION-3100: 1 FOUP _ OPTISTATION-3200: 2 FOUP 특징 • 300mm Wafer의 간단하고 빠른 수동 육안 검사 • MACRO / MICRO IMAGE 분석에 최적화 된 Digital Camera System을 장착 가능 • R&D 결함

Nikon Wafer Loader OST-3000 개요 Wafer Inspection System OPTISTATION-3000 - 8", 12" Wafer 대응 - Manual Stage & Focus - Wafer Auto Loading - 1 Load Port - Thin Wafer & BOW Wafer 대응 특징 • 300mm Wafer의 간단하고 빠른 수동 육안 검사 • MACRO / MICRO IMAGE분석에 최적화 된 Digital Camera System을 장착 가능 • R&D 결함 분석을위한 Inline검사 Sy